ලෝහ විද්‍යාවේ විසරණය පිළිබඳ සංකල්පය

ලෝහ විද්‍යාවේ විසරණය පිළිබඳ සංකල්පය

විසරණය යනු ලෝහ විද්‍යාවේ මූලිකම සංකල්පවලින් එකකි, මන්ද එය ඝන ද්‍රව්‍ය තුළ පරමාණු චලනය වන ආකාරය පාලනය කරයි. මෙම පරමාණුක චලනය සාර්ව පරිමාණයකින් "නොපෙනෙන" ලෙස පෙනුනද, එහි බලපෑම ඉතා සැබෑ ය: විසරණය තාප පිරියම් කිරීමේ වේගය, අදියර සෑදීම, විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, යාන්ත්‍රික ශක්තිය සහ සංරචකවල සේවා කාලය පවා බලපායි. විසරණය තේරුම් නොගෙන, වානේ දැඩි කළ හැක්කේ ඇයි, දිගු රත් කිරීමෙන් පසු ඇතැම් මිශ්‍ර ලෝහ බිඳෙනසුලු වන්නේ ඇයි, නැතහොත් ලෝහ මතුපිට ආරක්ෂිත ස්ථර සෑදී පවතින්නේ ඇයි යන්න පැහැදිලි කිරීම දුෂ්කර ය.

විසරණය සහ මූලික යාන්ත්‍රණ අවබෝධ කර ගැනීම

සරලව කිවහොත්, විසරණය යනු සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමයක් හේතුවෙන් ස්කන්ධය මාරු කිරීමයි, එනම් එක් ස්ථානයක සිට තවත් ස්ථානයකට මූලද්‍රව්‍යයක සාන්ද්‍රණයේ වෙනසයි. ලෝහ වැනි ඝන ද්‍රව්‍යවල, ද්‍රව හෝ වායුවල මෙන් පරමාණු නිදහසේ චලනය නොවේ. කෙසේ වෙතත්, ඇතැම් උෂ්ණත්වවලදී, පරමාණු ස්ඵටික දැලිසෙහි එක් ස්ථානයක සිට තවත් ස්ථානයකට "පැනිය හැකිය", විශේෂයෙන් හිස්තැන් හෝ අන්තර් අන්තරාල ස්ථාන තිබේ නම්. මෙම ක්‍රියාවලිය වඩාත් ඒකාකාර ව්‍යාප්තියක් ලබා ගන්නා තෙක් පරමාණු ඉහළ සාන්ද්‍රණයකින් යුත් ප්‍රදේශවල සිට අඩු සාන්ද්‍රණයකින් යුත් ප්‍රදේශවලට පැතිරීමට හේතු වේ.

ලෝහ විද්‍යාවේදී, ප්‍රධාන විසරණ යාන්ත්‍රණ දෙකක් තිබේ:

1. ආදේශන විසරණය
පාදක ලෝහ පරමාණු වෙනුවට ද්‍රාව්‍ය පරමාණු දැලිස් ස්ථාන අල්ලා ගන්නා විට සිදු වේ (උදා: මිශ්‍ර වානේ වල Fe හි Ni). පරමාණු හිස්තැන් සූරාකෑමෙන් සංක්‍රමණය වේ. හිස්තැන් පැවතීම සහ මාරුවීමේ සාපේක්ෂව "බර" ස්වභාවය අවශ්‍ය වන බැවින්, ආදේශක විසරණය සාමාන්‍යයෙන් මන්දගාමී වේ.

2. අන්තරාල විසරණය
කුඩා පරමාණු අතරමැදි අවකාශයන් අල්ලා ගන්නා විට සිදු වේ (උදා: Fe හි C හෝ N). මෙම කුඩා පරමාණු පුරප්පාඩු සඳහා බලා නොසිට අතරමැදි ස්ථාන අතර පැනිය හැකි අතර, එම නිසා සාමාන්‍යයෙන් ආදේශක විසරණයට වඩා බොහෝ වේගවත් වේ. මේ නිසා කාබන් ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී යකඩ තුළ සාපේක්ෂව ඉක්මනින් විසරණය විය හැකිය - වානේ මතුපිට දැඩි කිරීම සහ තාප පිරියම් කිරීමේදී ඉතා වැදගත් කරුණකි.

විසරණයේ ගාමක බලවේග: සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමණය සහ නිදහස් ශක්තිය

පද්ධතියක් අඩු නිදහස් ශක්ති තත්වයක් කරා නැඹුරු වන නිසා විසරණය සිදු වේ. සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමය වඩාත් පොදු ගාමක බලයයි: සංයුතියේ විෂමජාතීයතාවය අඩු කිරීම සඳහා පරමාණු සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමයකින් පහළට ගමන් කරයි. කෙසේ වෙතත්, ලෝහ විද්‍යාත්මක භාවිතයේදී, විසරණය සඳහා ගාමක බලය රසායනික විභව අනුක්‍රමයක්, ආතති අනුක්‍රමයක් (ආතති-සහායිත විසරණය) හෝ උෂ්ණත්ව අනුක්‍රමයක් (තාප ස්ථායිකරණය) වැනි වඩාත් සංකීර්ණ විය හැකිය. කෙසේ වෙතත්, බොහෝ ඉංජිනේරු යෙදුම් සඳහා, සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමය විසරණ විශ්ලේෂණය සඳහා ප්‍රාථමික ආකෘතිය ලෙස පවතී.

ෆික්ගේ නියමය: විසරණය සඳහා ප්‍රමාණාත්මක රාමුවක්

ලෝහ විද්‍යාවේ විසරණ විශ්ලේෂණය බොහෝ විට භාවිතා කරන්නේ ෆික්ගේ නියමය වන අතර එය පරමාණුක ප්‍රවාහය සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමයට සම්බන්ධ කරයි.

– ෆික්ගේ පළමු නියමය පවසන්නේ විසරණ ප්‍රවාහය සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමණයට සමානුපාතික බවයි: පරමාණු ඉහළ සිට අඩු සාන්ද්‍රණය දක්වා ගලා යයි. සංකල්පමය වශයෙන්, සාන්ද්‍රණ අනුක්‍රමය බෑවුම් වන තරමට විසරණ අනුපාතය වැඩි වේ.

– ෆික්ගේ දෙවන නියමය කාලයත් සමඟ සාන්ද්‍රණය වෙනස් වන ආකාරය පැහැදිලි කරයි. දිගු කාලීන තාප පිරියම් කිරීම් වලදී කාබනීකරණය, නයිට්‍රයිඩින් හෝ මිශ්‍ර ලෝහ මූලද්‍රව්‍ය විසරණය වැනි ක්‍රියාවලීන්ගෙන් පසු සාන්ද්‍රණ පැතිකඩ පුරෝකථනය කිරීම සඳහා මෙම නියමය ඉතා වැදගත් වේ.

ෆික්ගේ නියමය II හරහා, ඉංජිනේරුවන්ට සංරචකයක මතුපිට යම් විසරණ ගැඹුරකට ළඟා වීමට කොපමණ කාලයක් රත් කිරීමට අවශ්‍ය දැයි ඇස්තමේන්තු කළ හැකිය.

විසරණ සංගුණකය සහ උෂ්ණත්ව බලපෑම

විසරණ අනුපාතය බොහෝ දුරට තීරණය වන්නේ විසරණ සංගුණකය (D) මගිනි. උෂ්ණත්වය ඉහළ යන විට D හි අගය සාමාන්‍යයෙන් නාටකාකාර ලෙස වැඩි වන අතර එහි යැපීම බොහෝ විට ආර්හීනියස් සමීකරණය අනුගමනය කරයි:

– උෂ්ණත්වය සමඟ D ඝාතීය ලෙස වැඩි වේ,
– පරමාණුක විස්ථාපනය සඳහා සක්‍රියන ශක්තිය (Q) මගින් තීරණය වේ.

ප්‍රායෝගිකව, මෙයින් අදහස් කරන්නේ අංශක දස දහස් ගණනක සිට සිය ගණනක උෂ්ණත්වය වැඩිවීමක් බොහෝ වාරයක් විසරණය වේගවත් කළ හැකි බවයි. එබැවින්, මිශ්‍ර ලෝහ සමජාතීයකරණය, ලෝහ කුඩු සින්ටර් කිරීම හෝ තාප පිරියම් කිරීම වැනි ලෝහ විද්‍යාත්මක ක්‍රියාවලීන් පරමාණුක චලනය වේගවත් කිරීමට සහ සාධාරණ නිෂ්පාදන කාලයක් තුළ අපේක්ෂිත ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය ලබා ගැනීමට ඉහළ උෂ්ණත්වයන් භාවිතා කරයි.

ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයේ විසරණය: අදියර පරිවර්තනය සමඟ සම්බන්ධතාවය

විසරණය මිශ්‍ර ලෝහවල අවධි පරිවර්තන සමඟ සෘජුවම සම්බන්ධ වේ. ලෝහවල බොහෝ පරිවර්තන විසරණය-පාලිත වේ, එනම් නව අවධි සෑදීමේ වේගය තීරණය වන්නේ පරමාණු කොතරම් වේගයෙන් චලනය විය හැකිද යන්න මතය.

උදාහරණයක් ලෙස:
– වානේ වලදී, ඔස්ටිනයිට් වලින් පර්ලයිට් සෑදීමට කාබන් විසරණය අවශ්‍ය වේ.
– වයසට යාමේදී ඇලුමිනියම් මිශ්‍ර ලෝහවල (උදා: Al-Cu) අවක්ෂේප සෑදීම ද ශක්තිමත් කිරීමේ අංශු සෑදීම සඳහා ද්‍රාවිත පරමාණු විසරණය වීම මත රඳා පවතී.

කෙසේ වෙතත්, සියලුම පරිවර්තනයන් සඳහා විසරණය අවශ්‍ය නොවේ. වානේවල මාර්ටෙන්සයිට් වැනි පරිවර්තනයන් ඉතා වේගයෙන් සිදුවන අතර සාමූහික පරමාණුක මාරුවීම් හරහා ස්ඵටික ව්‍යුහයේ වෙනස සිදුවන බැවින් ඒවා පාහේ විසරණයෙන් තොර වේ. විසරණ සහ විසරණ නොවන පරිවර්තනයන් අතර මෙම සංසන්දනය තාප පිරියම් කිරීම හරහා යාන්ත්‍රික ගුණාංග පාලනය කළ හැකි ආකාරය තේරුම් ගැනීමට යතුරයි.

ධාන්‍ය මායිම්වල සහ විස්ථාපනවල විසරණය: වේගවත් ධාවන පථය

ලෝහවල විසරණය ද්‍රව්‍යය පුරා සෑම විටම එකම නොවේ. විසරණය වේගවත් කරන මාර්ග තිබේ, එනම්:
– ධාන්‍ය මායිම්
මෙම කලාපය ධාන්‍ය අභ්‍යන්තරයට වඩා අක්‍රමවත් ව්‍යුහයක් ඇති අතර, පරමාණු වඩාත් පහසුවෙන් චලනය වීමට ඉඩ සලසයි. ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී රිංගා යාම සහ ධාන්‍ය මායිම්වල ඇතැම් මූලද්‍රව්‍ය වෙන් කිරීම වැනි සංසිද්ධිවලදී ධාන්‍ය මායිම් විසරණය වැදගත් වන අතර එමඟින් බිඳෙනසුලු බවක් ඇති විය හැක.

– විස්ථාපනය (නල විසරණය)
විස්ථාපනයන් වේගවත් විසරණය සඳහා "නල" ලෙස ක්‍රියා කළ හැකිය. සමහර අවස්ථාවලදී, විස්ථාපනයන් හරහා විසරණය උණුසුම් විරූපණය සහ ප්‍රකෘතිමත් වීමේදී ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහාත්මක වෙනස්කම් වලට දායක වේ.

මෙම වේගවත් විසරණ මාර්ගය, සියුම්-කැටිති හෝ ඉහළ-විස්ථාපන-ඝනත්ව ද්‍රව්‍ය, වඩාත් "පරිපූර්ණ" ස්ඵටිකරූපී ද්‍රව්‍යවලට වඩා වෙනස් විසරණ හැසිරීම් ප්‍රදර්ශනය කළ හැක්කේ මන්දැයි පැහැදිලි කරයි.

ලෝහ විද්‍යාත්මක ක්‍රියාවලීන්හි විසරණය යෙදීම

විසරණය යනු න්‍යායක් පමණක් නොවේ; එය බොහෝ කාර්මික ක්‍රියාවලීන්හි සෘජුවම භාවිතා වේ:

1. කාබනීකරණය සහ නයිට්‍රයිඩින් කිරීම
මතුපිට ස්ථරයට කාබන් හෝ නයිට්‍රජන් හඳුන්වා දීමෙන් වානේ මතුපිට දැඩි කිරීමේ ක්‍රියාවලිය. විසරණය මඟින් ආවරණ ගැඹුර සහ දෘඪතා පැතිකඩ පාලනය කරයි.

2. මිශ්‍ර ලෝහයේ සමජාතීයකරණය
වාත්තු කිරීමෙන් පසු, සංයුති වෙන් කිරීම බොහෝ විට සිදු වේ. සමජාතීය තාප පිරියම් කිරීම් මිශ්‍ර ලෝහ මූලද්‍රව්‍යවල ව්‍යාප්තිය ඒකාකාර කිරීම සඳහා විසරණය භාවිතා කරයි.

3. කුඩු ලෝහ විද්‍යාව සින්ටර් කිරීම
සින්ටර් කිරීමේදී, අංශු මතුපිට, ධාන්‍ය මායිම් සහ පරිමාව අතර පරමාණුක විසරණය හේතුවෙන් කුඩු අංශු එකට බන්ධනය වන අතර සිදුරු හැකිලී යයි.

4. විසරණ ආලේපනය
උදාහරණයක් ලෙස, ඇලුමිනියම් කිරීම හෝ ක්‍රෝමීකරණය ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී ඔක්සිකරණ/විඛාදන ප්‍රතිරෝධය වැඩි කළ හැක. ආලේපන මූලද්‍රව්‍ය උපස්ථරයට විසරණය වී නිශ්චිත අන්තර් ලෝහ සංයෝග සාදන විට ආලේපනය සෑදේ.

5. අධික උෂ්ණත්ව රිංගා යාම සහ පිරිහීම
ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී (ටර්බයින, බොයිලේරු) දිගු කාලීනව භාවිතා කිරීමේදී, ධාන්‍ය මායිම් මාරු කිරීම, අවක්ෂේපිත රළු කිරීම සහ හිස්තැන් විශාල කිරීම සඳහා විසරණය භූමිකාවක් ඉටු කරයි, එය අවසානයේ ද්‍රව්‍යය දුර්වල කරයි.

විසරණයට බලපාන සාධක

ලෝහ විද්‍යාවේ විසරණය පාලනය කරන සමහර වැදගත් සාධක අතරට:
– උෂ්ණත්වය (වඩාත්ම ප්‍රමුඛ): ඉහළ වන තරමට වේගවත් වේ.
– පරමාණුක ප්‍රමාණය සහ යාන්ත්‍රණයේ වර්ගය: කුඩා අන්තරාල පරමාණු වේගවත් වේ.
– ස්ඵටික ව්‍යුහය: දැලිස් ඝනත්වය පරමාණු පැනීමේ පහසුව කෙරෙහි බලපායි.
– පුරප්පාඩු සාන්ද්‍රණය: උෂ්ණත්වය සමඟ වැඩි වන අතර ආදේශක විසරණයට බලපායි.
– ස්ඵටික දෝෂ පැවතීම: ධාන්‍ය මායිම්, විස්ථාපනය සහ සිදුරු විසරණය වේගවත් කළ හැකිය.
– මිශ්‍ර ලෝහ සංයුතිය: මූලද්‍රව්‍ය අතර අන්තර්ක්‍රියා මගින් පරමාණුක සංචලතාව වැඩි කිරීමට හෝ අඩු කිරීමට හැකිය.

වසා දැමීම

ලෝහ විද්‍යාවේ විසරණය පිළිබඳ සංකල්පය, ලෝහ සහ මිශ්‍ර ලෝහවල ගුණාංග ඉංජිනේරුකරණය කළ හැකි ආකාරය තේරුම් ගැනීමට යතුරයි. වානේ තාප පිරියම් කිරීමේ සිට, සැහැල්ලු මිශ්‍ර ලෝහවල වර්ෂාපතනය ශක්තිමත් කිරීම දක්වා, ද්‍රව්‍යවල ඉහළ උෂ්ණත්ව කල්පැවැත්ම දක්වා, සියල්ල මුල් බැස ඇත්තේ ඝන ද්‍රව්‍යයක් තුළ පරමාණුවලට චලනය වීමට ඇති හැකියාව තුළ ය. ෆික්ගේ නීතියේ රාමුව සහ ආදේශක සහ අන්තර් අන්තරාල විසරණ යාන්ත්‍රණයන් පිළිබඳ අවබෝධයක් සමඟින්, ඉංජිනේරුවන්ට ක්‍රියාවලි අනුපාත පුරෝකථනය කිරීමට, නිෂ්පාදන පරාමිතීන් ප්‍රශස්ත කිරීමට සහ ක්ෂේත්‍රයේ සංරචක අසාර්ථකත්වයන් වළක්වා ගත හැකිය. අවසාන වශයෙන්, විසරණය යනු ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහයේ “එන්ජිම” වන අතර ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය ලෝහ ද්‍රව්‍ය ක්‍රියාකාරිත්වයේ ප්‍රාථමික නිර්ණායකය වේ.

ඔබට අවශ්‍ය නම්, මට සංකල්ප රූප සටහනක් (උදා: කාබනීකරණ සාන්ද්‍රණ පැතිකඩක්), ෆික්ගේ නියමය මත පදනම් වූ සරල ගණනය කිරීමේ උදාහරණයක් එක් කළ හැකිය, නැතහොත් Fe–C පද්ධතියේ නිශ්චිත විසරණය වඩාත් ගැඹුරින් සාකච්ඡා කළ හැකිය.

අදහස අත්හැර